中日本炉工業株式会社
 
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◆CVDコーティング装置

概 要

  • コーティングチャンバー内部は、どのような形状の品物に対しても、制限なく使えます。
  • 加熱炉一台にコーティングチャンバーを、2〜4台を付加することが出来ます。
  • コーティングは規定圧力で行われます。
  • プロセスシーケンスは予備プログラミング可能な自動プロセッサーによって監視され、さらに制御及び調節装置を備えております。
  • ガス供給装置は、その装置に綿密にコンパクトに装備されております。
CVDプロセス
CVDはChemical Vapor Depositionの略称です(気相からの化学蒸着)。このプロセスでは、ガス混合物が高温においてコーティングされる品物の表面上を流れます。化学反応がそのガス間で起こり、それによって緻密で、層厚の均一なすばらしい密着性をもった層がその品物の表面に析出します。
 
仕様及び寸法
装置形式
1H-1
1H-2
2H-4
1H-1S
1H2S
炉数
1
1
2
1
2
炉毎の加熱帯の数
6
6
6
4
4
コーティングチャンバーの数
1
2
4
1
2
コーティングチャンバーの有効作業寸法
ø 360×900mm
ø 250×500mm
コーティング温度
750〜1050℃
(コーティング形式により異なる)
蒸着速度
3μm/h
(コーティング形式により異なる)
単層もしくは多層形式
TiC,TiC+TiCN+TiN
電力供給
220V 50/60Hz/cps
電力消費量
50Kw
55Kw
120Kw
30Kw
35Kw
設備に要する敷地
6×6m
8×6m
14×6m
7×5m
7×5m
クレーンに要する高さ
5.4m
5.4m
5.4m
4m
4m

加工例


 

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