◆プラズマ熱処理技術の共同開発（テクノアークしまね）
現在、島根県の産官学共同プロジェクトとして、「プラズマ技術開発センター」に参画して、プラズマ熱処理室、搬送室、He加圧冷却室、搬入出室を備えた工業規模の多室型プラズマ熱処理装置の開発を行っています。
これを用いて工業用プロセスとしてのプラズマ浸炭技術の開発を行い自動車用部品、金型部品などに対する工業規模のプラズマ浸炭技術の適用を図り熱処理メーカーとして、技術の研鑽に努めてまいります。
■プラズマ熱処理技術、In-situ制御技術を工業的規模での利用を目的とした 量産処理プロセスの開発。
■量産プロセスとしてのHeガス加圧冷却による焼入れ特性の検証と、冷却ガ ス循環利用システムの開発。
■自動車用部品、金型など実製品での量産プロセスにおけるプラズマ表面改 良処理技術の開発。
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プラズマ浸炭技術
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In-situ制御技術
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◆アクティブスクリーンプラズマ窒化装置（ Active Screen Plasma Nitriding furnace）
グロー放電を炉壁とスクリーン間で起こし、スクリーンからの熱輻射で材料温度を上昇させるとともに、スクリーンを通過した反応活性種により表面改質処理を行います。処理品表面でのグロー放電を発生させないことから、材料形状に起因する改質不均一（エッジ効果、ホローカソード効果）の回避が可能です。 |
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稼働中のアクティブスクリーン
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◆装置の主な仕様
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| 炉体構造 |
スイングベル型：鉄鋼製二重構造 |
| 冷却方式 |
二重ジャケット水冷方式（炉内撹拌ファン敷設） |
| 炉内有効サイズ |
直径1000mm×高さ1200mm |
| 使用ガス種 |
水素、アルゴン、窒素、メタン、酸素 |
| 排気系 |
メカニカルブースターポンプ及び油回転ポンプ |
| 真空排気能力 |
真空到達度0.1mbar以下（空炉、室温）
真空排気速度0.1mbarまで20分以内
（空炉、室温、脱ガス、N2置換後） |
| 制御プログラミング |
PLCで対話形式プログラミング可能 |
| 必要電力 |
相400Vで150kVA
（プラズマ電源用120kVA、その他20kVA） |
| 冷却水条件 |
水量250〜350?/時（水圧3bar、水温15〜20℃以下） |
| 構 成 |
搬入搬出室、搬送室、 プラズマ熱処理室、加圧冷却室、 In-situ制御室 |
| 有効寸法 |
600W×600L×900H(mm) |
| 装入重量 |
グロス 500kg/チャージ |
| 使用温度 |
●搬入搬出室・・・常用 250〜300℃、最高350℃
●プラズマ熱処理室・・・ 常用 500〜1300℃、最高1350℃ |
| 処理ガス |
CH4、C3H8、Ar、H2、N2 |
| プラズマ電源 |
直流パルスプラズマ |
| モニタリング系 |
(Rubig社製 Micropuls Plasma Generator) |
| 冷却寸法 |
エリプソメーター、発光分光光度計
10ber Heガス加圧冷却 |
